納米實驗室膠體磨

研磨效果

響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

2膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
SID定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD（轉子直徑）X轉速RPM/60

實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

納米實驗室中試型膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，實驗室中試型膠體磨用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

GM2000/4納米實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。 GM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。 GM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

公司另外一項獨特的創(chuàng)新，就是錐體磨GMO2000系列，它的設計使其功能在原有的GM2000的基礎上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，GMO2000能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨GM2000還小。研磨間隙可以無級調節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數。 
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨GM的效果更加理想。

 納米實驗室膠體磨選型表：